Дублирующая ошибка местоположения при использовании явного местоположения для равномерной структуры - PullRequest
Новая
       64

Дублирующая ошибка местоположения при использовании явного местоположения для равномерной структуры

0 голосов
/ 18 июня 2019

Это часть моего VS: 

#version 450
#extension GL_ARB_explicit_uniform_location : enable
#extension GL_ARB_separate_shader_objects : enable
#extension GL_ARB_gpu_shader5 : enable


//Imports
#include "/common.glsl"
#include "/common_structs.glsl"

//Mesh Attributes
layout(location=0) in vec4 vPosition;
layout(location=1) in vec2 uvPosition0;
layout(location=2) in vec4 nPosition; //normals
layout(location=3) in vec4 tPosition; //tangents
layout(location=4) in vec4 bPosition; //bitangents
layout(location=5) in vec4 blendIndices;
layout(location=6) in vec4 blendWeights;

//Uniform Blocks
layout (std140) uniform Uniforms
{
    CommonPerFrameUniforms mpCommonPerFrame;
    CommonPerMeshUniforms mpCommonPerMesh;
};

//Outputs
out vec3 E;
out vec3 N;
out vec2 uv0;
out float l_distance;
out mat3 TBN;
out vec3 default_color;
out vec4 finalPos;
out vec4 finalNormal;

void main()
{...}

Это часть моего FS: 

#version 450
#extension GL_ARB_explicit_uniform_location : enable
#extension GL_ARB_separate_shader_objects : enable
#extension GL_ARB_texture_query_lod : enable
#extension GL_ARB_gpu_shader5 : enable

//Includes
#include "/common.glsl"
#include "/common_structs.glsl"

layout(location = 200) uniform MaterialUniforms  mpCustomPerMaterial;


//Uniform Blocks
layout (std140) uniform Uniforms
{
    CommonPerFrameUniforms mpCommonPerFrame;
    CommonPerMeshUniforms mpCommonPerMesh;
};


in vec3 E;
in vec3 N;
in vec2 uv0;
in float l_distance;
in mat3 TBN;
in vec3 default_color;
in vec4 finalPos;

//Deferred Shading outputs
out vec4 outcolors[3];

void main
{...}

Операторы #include на самом деле являются операторами препроцессора, которые я использую вДля того, чтобы включить общие структуры и функции для шейдеров.Один из них следующий: 

struct MaterialUniforms 
{
    bool matflags[64];

    sampler2DArray diffuseTex;
    sampler2DArray maskTex;
    sampler2DArray normalTex;

    vec4 ColourVec4;
    vec4 ParamsVec4;
};

Итак, проблема в том, что если я использую layout(location = 200) uniform MaterialUniforms mpCustomPerMaterial;

, то получаю следующую ошибку от компоновщика: 

Link info
---------
Error Duplicate location 201 for uniform mpCustomPerMaterial.diffuseTex
Error Duplicate location 202 for uniform mpCustomPerMaterial.maskTex
Error Duplicate location 203 for uniform mpCustomPerMaterial.normalTex
Error Duplicate location 204 for uniform mpCustomPerMaterial.gMaterialColourVec4
Error Duplicate location 205 for uniform mpCustomPerMaterial.gMaterialParamsVec4

Когда я удаляю layout(location=200) из унифицированного определения, шейдер успешно компилируется.Я экспериментировал с разными значениями местоположения, но не могу понять, почему это происходит.Есть ли вероятность, что используемые мной унифицированные блоки конфликтуют с униформой struct?

...